天津大学 - 竞价结果公告(CB100562022001448)

发布时间: 2025年03月04日
摘要信息
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**** - 竞价结果公告(****)
发布时间:2025-03-04 14:19:22
申购单号: ****
申购主题: RIE反应离子刻蚀机
采购单位: ****
竞价开始时间: 2022-12-12 19:02:51
竞价截至时间: 2022-12-13 19:12:48
币种: 人民币
付款方式: 货到验收合格后付款
备注说明: 22DK100952
质疑说明: 如果对成交结果有异议,请在发布成交结果之日起三个工作日内向采购单位提出质疑
成交总额: 198000.00
送货时间: 合同签订后7天内送达
安装要求: 免费上门安装(含材料费)
收货地址:
采购项 品牌 单项预算 成交单价 质保及售后服务 技术参数 数量 型号 成交总价 成交供应商
RIE反应离子刻蚀机 198000.00 按行业标准提供服务(提供本地化安装调试及售后服务) 型号:RIE200plus PLC工控机控制,7寸彩色触摸屏互动操作界面,图形化操作界面显示,自动监测工艺参数状态,0~99配方程序,可存储、输出、追溯工艺数据,机器运行、停止提示。 手动、自动两种工作模式。全真空管路系统采用316不锈钢材质。 采用防腐数字流量计控制,标配双路气体输送系统,可选多气路气体输送系统,可输入氧气、氩气、氮气、四氟化碳、氢气或混合气等气体。 具备HEPA高效过滤气体返填吹扫功能。 人体功能学的60度倾角操作界面设计,操作方便,界面**。 316不锈钢、航空铝真空仓选择。 采用顶置真空仓,上开盖设计,下压式铰链开关方式。上置式360度水平取放样品设计。 最大处理直径200mm晶元硅片。 安全保护,仓门打开,自动关闭电源。 舱体内尺寸:H38xΦ260mm。 舱体容积:2L。 射频电源:13.56MHz,射频功率10-300W**可调。 电极:不锈钢气浴RIE电极,Φ200mm。 自动匹配器。 RIE刻蚀方式。 气体控制:质量流量计(MFC)(标配双路,可选多路)流量范围0-500SCCM(可调)。 工艺气体选择:Ar、N、O、H、CF4、CF4+ H2、CHF3或其他混合气体等(可选)。 时间设定1-99分59秒。真空泵:Edwards爱德华真空泵 RV3双级旋片泵,抽速:8m3/h,极限真空≤1Pa。 气体稳定时间:1分钟 1.0 RIE200plus 198000.00 ****
招标进度跟踪
2025-03-04
中标通知
天津大学 - 竞价结果公告(CB100562022001448)
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