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立式低压化学气相沉积（LPCVD）
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***********公司企业信息
****2025年4至11月政府采购意向-立式低压化学气相沉积（LPCVD） 详细情况
| 立式低压化学气相沉积（LPCVD） | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年4至11月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 立式低压化学气相沉积（LPCVD） |
| 预算金额： | 750.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****2402真空应用设备
|
| 采购需求概况 ： |
采购数量：1台，现场调试时间不小于一周，验收完成以后保修期3年。 1、可装载晶圆尺寸：8英寸，可向下兼容； 2、4炉管，具备常压热氧、氮化硅（含低应力），多晶硅（含原位掺杂），TEOS氧化硅沉积工艺，每管处理晶圆数量：25片（不含配片）；
|
| 预计采购时间： | 2025-04 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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2025-03-12
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