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高精度磁控溅射系统
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2980000.00
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***********公司企业信息
****2025年5至6月政府采购意向-高精度磁控溅射系统 详细情况
| 高精度磁控溅射系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年5至6月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 高精度磁控溅射系统 |
| 预算金额： | 298.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****2002电气物理设备
|
| 采购需求概况 ： |
标的名称：高精度磁控溅射系统。 主要功能：实现高质量氧化物、氮化物、金属、合金薄膜的高精度、高效率制备，支撑光电子集成芯片制造、光学薄膜等领域研究。 采购数量：1套。 性能指标：腔室极限真空度：≤1.0x10-8Torr；电源种类：直流、射频、直流pulse、不对称双极脉冲直流；样品台温度：0-800℃；成膜均匀度：≤±5%。
|
| 预计采购时间： | 2025-06 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2025-03-14
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