等离子体干法刻蚀机(ICP)

发布时间: 2025年03月14日
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****2025年5至6月政府采购意向-等离子体干法刻蚀机(ICP) 详细情况
等离子体干法刻蚀机(ICP)
项目所在采购意向: ****2025年5至6月政府采购意向
采购单位: ****
采购项目名称: 等离子体干法刻蚀机(ICP)
预算金额: 400.000000万元(人民币)
采购品目:
A****2002电气物理设备
采购需求概况 :
标的名称:等离子体干法刻蚀机(ICP)。 主要功能:用于半导体制造、集成光学、MEMS和其它微纳制造等领域,实现精密刻蚀、图案转移、金属和氧化物薄膜的处理、深宽比精细刻蚀、微结构加工及表面清洗。 采购数量:1套。 性能指标:RF:3.56 MHz;ICP:13.56 MHz;刻蚀均匀性:≤ ±5%;气体输送系统:≥6路;真空度:≤ 10-4pa;工艺控压范围:≤ 0.1 mTorr;Chiller 控温范围:-20 ~ +90℃。
预计采购时间: 2025-06
备注:

本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写

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2025-03-14
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