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磁控溅射设备
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2000000.00
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***********公司企业信息
****2025年3至12月政府采购意向-磁控溅射设备 详细情况
| 磁控溅射设备 | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年3至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 磁控溅射设备 |
| 预算金额： | 200.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0699其他试验仪器及装置
|
| 采购需求概况 ： |
主要包括控制单元、分子泵、机械泵、真空蒸镀腔体等单元，真空度能够达到10-6Pa以下，磁控阴极能够10 W持续放电，投入最大电力10 W/cm2。具有低速率溅射控制模式，能够性能均匀薄膜。基板加热温度达300℃。
|
| 预计采购时间： | 2025-12 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2025-03-14
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