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电子束蒸发镀膜系统
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2320000.00
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***********公司企业信息
****2025年3月政府采购意向-电子束蒸发镀膜系统 详细情况
| 电子束蒸发镀膜系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年3月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 电子束蒸发镀膜系统 |
| 预算金额： | 232.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0999其他金属加工设备
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| 采购需求概况 ： |
电子束蒸发镀膜系统主要用于金属材料表面镀膜。利用电子枪生成高能电子束，然后电子束撞击目标材料，将其加热到蒸发温度。蒸发的材料原子或分子在真空中飞行到基板表面，冷凝形成薄膜。 电子束蒸发镀膜系统具有以下技术特点： 1.与其他低成本的 PVD 工艺相比，电子束蒸发具有非常高的材料利用效率。2.电子束系统仅加热目标源材料，而不是整个坩埚，从而降低了坩埚的污染程度。3.通过将能量集中在目标而不是整个真空室上，它有助于减少对基板造成热损坏的可能性。广泛适用于航空航天、工业和医疗等领域。 主要技术指标包含：1. 真空检漏率小于等于5.0*10-7PA.1/s 2. 真空度：10^-5到10^-7托 3.可加工6英寸样品及以下尺寸整片或碎片，厚度不限。 4. 6英寸面内镀膜厚度均匀性优于±2%。 5.可进行高深宽比镀膜工艺和剥离（Lift-off）工艺。 6.可进行各种材料（金属、合金、化合物）的蒸镀工艺。 7.抽气速率，工艺室从大气抽到 5E-4Pa 的时间少于 30 分钟。 8.镀膜批次间重复性优于±2%。
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| 预计采购时间： | 2025-03 |
| 备注： |
无
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本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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