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无掩膜激光直写光刻系统
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***********公司企业信息
****2025年04(至)05月政府采购意向-无掩膜激光直写光刻系统 详细情况
| 无掩膜激光直写光刻系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年04(至)05月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 无掩膜激光直写光刻系统 |
| 预算金额： | 110.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | |
| 采购需求概况 ： |
采购内容:其他仪器仪表采购数量:1台主要功能或目标:无掩模激光直写光刻系统主要功能有微流控芯片制作、光刻胶直写以及多层套刻直写等，适用于多种衬底材料的光刻加工，同时具备高精度光刻能力，无需掩模版即可直接刻写任意图案以满足多样化需求，可广泛应用于微流控芯片、MEMS（微机电系统）、传感器、集成光学以及新颖材料等领域。需满足的要求:微流控芯片的微通道的精确加工，复杂结构的制备，无需制作掩模，可快速将设计好的图案直接转移到基底上，便于科研人员快速验证新的传感器结构和原理，加快研发进程
|
| 预计采购时间： | 2025-05 |
| 备注： |
详见招标文件
|
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2025-04-16
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