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| ****采购自动化磁控溅射设备项目 | |
| 项目所在采购意向: | ****2025年05月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | ****采购自动化磁控溅射设备项目 |
| 预算金额: | 97.000000万元(人民币) |
| 采购品目: | |
| 采购需求概况 : |
采购内容:自动化磁控溅射设备采购项目;主要功能或目标:通过高能粒子轰击靶材,使靶材原子或分子溅射出来并沉积在基片表面,形成均匀、致密的薄膜;需满足的要求:支持多靶材溅射,可同时或依次沉积不同材料,可制备多层或复合薄膜,满足复杂应用需求;配备高效真空系统,确保溅射过程在低污染环境下进行,提高薄膜质量。溅射功率稳定,气体流量控制精确,基片温度可控。
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| 预计采购时间: | 2025-05 |
| 备注: |
无
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本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写