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| 原位复合原子层级超晶格沉积系统 | |
| 项目所在采购意向: | ****2025年6月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 原位复合原子层级超晶格沉积系统 |
| 预算金额: | 600.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****2402真空应用设备
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| 采购需求概况 : |
拟采购原位复合原子层级超晶格沉积系统集原子层沉积(ALD)、等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)及物理气相沉积(PVD)于一体,以满足亚纳米级( lt;1 nm)薄膜与超晶格精确制备、三维复杂结构均匀包覆、低维量子材料与器件低温封装、低缺陷高纯度金属功能层与电极沉积等功能。 主要技术需求如下: (1)无需整体腔室卸真空或大范围移动样品即可实现ALD和PVD原位复合薄膜制备 (2)配置最高温度≥400℃的梯度控温样品台 (3)设备预留接口可与手套箱连接,可实现样品在手套箱与腔体之间传样 (4)ALD前驱体源可配置2个气源,带2个单独入口 (5)配备等离子体增强模块, 频率≥2GHz;配合两路前驱体源的协同操控,可实现等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)功能 (6)配置不少于两个磁控溅射源或可升级为电子束蒸镀模块,单穴最大功率200W,可放入坩埚数不少于4个 主要包括如下组成: 复合薄膜沉积腔体 1套 含加热功能样品台 1套 原子层沉积真空控制模块 1套 原子层沉积功能配套真空泵 1套 原子层沉积前驱体源 2套 等离子增强模块 1套 物理气相沉积真空控制模块 1套 物理气相沉积功能配套真空泵 1套 物理气相沉积模块 1套 物理气相沉积控制器 1套 腔体内真空阀门 1套 服务要求: 1年质保 时限要求:到货2026年4月
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| 预计采购时间: | 2025-06 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写