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高真空磁控离子溅射仪
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400-688-2000
| 申购单主题： | 高真空磁控离子溅射仪 | 申购单位： | **** | 报价类型： | 国内含税价 |
| 使用币种： | 人民币 | 公示时间： | 2025-05-16 18:08:26 | ||
| 申购备注： | 送货前请提前联系申购人 | ||||
| 高真空磁控离子溅射仪 | 格微 | GVC-2000TE | 1 | 保证竞价商品为原封正品 出现技术问题需在36小时内响应解决 |
| 规格 |
| 1. 溅射组件：采用平面磁控溅射靶头，直流磁控溅射电源作为高压源，无热损失； 2. 操作界面：7英寸彩色触摸屏，中文或本地化语言操作界面，全数字显示； 3. 工作电流：2-200mA连续可调，最小步长为1mA； 4. 工作时长：1-999s连续可调，最小步长为1s; 5. 溅射靶材：直径φ57mm，可溅射金、铂、铬、铝四种靶材； 6. 真空室：采用高透光性的高硅硼玻璃，尺寸约为φ181（I.D.）×130（H）mm； 7. 最大样品尺寸：直径为φ125mm； 8. 真空系统：极限真空优于5E-3Pa，工作真空0.3-2Pa； 9. 操作模式：一键操作 10. 预溅射：具备全自动预溅射挡板 11. 安全保护：具备溅射电流和真空度双重互锁 12. 图形化显示：具备实时曲线显示溅射电流和真空度功能 13. 靶材更换：采用独特的靶材更换结构，无需工具，即可实现快速更换靶材； 14. 信息提示：具备三色状态指示灯 15. 膜厚监控模块：设定范围1-999nm，设定精度0.1nm，显示精度0.01nm。 |
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2025-05-19
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