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松山湖材料实验室2025年05月至2025年10月政府采购意向
招标详情
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***********公司企业信息
为便****政府采购信息，根据《****政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将本单位2025年05月至2025年10月采购意向公开如下：
| 1 | ****ICP刻蚀设备采购项目 |
标的名称：ICP刻蚀设备采购项目
标的数量：1
主要功能或目标：该设备主要用于微纳加工工艺中8英寸及以下基片上的多种金属薄膜材料的刻蚀工艺。
需满足的要求：1、样品尺寸：2-8寸； 2、刻蚀材料：Si、SiO2，SiN等半导体材料，常见金属以及金属基材料; 3、配备CF4、CHF3、SF6、Cl2、BCl3等工艺气体； 4、片内、片间均匀性（8寸）：≤±5%； 5、 SiN刻蚀指标： 1) 刻蚀速率：>200nm/min； 2) PR选择比：>2； 3) 侧面倾角：>85°;
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遵循落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位贫困地区农副产品等政策情况 | 2,500,000.00 | 2025年10月 |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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2025年05月23日
招标进度跟踪
2025-05-23
招标预告
松山湖材料实验室2025年05月至2025年10月政府采购意向
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