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| 序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
| 4197-244ZLCP10001/64 | 紫外光清洗装置(EUV) | 31台 | 设备用途及基本要求: 本设备用于基板或者Mask的表面改质处理(有机物分解、提高润湿性)。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY5000/USD850 |
| **** | 紫外光清洗装置(IUV) | 3台 | 设备用途及基本要求: 紫外光处理装置是一种利用紫外光的光化学反应来提高有机膜透过率或改善制程Taper角,以提高产品质量和生产效率的装置。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY1500/USD250 |
| 4197-244ZLCP10001/69 | 干式清洗装置 | 6套 | 设备用途及基本要求: 干式清洗装置是利用空气对基板表面进行非接触式的清洁的装置。使用风机吹出洁净空气,通过设置在传送带或平台上的Clean Head进行喷气和吸气,达到对基板表面的非接触式清洗。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY3000/USD500 |
| 4197-244ZLCP10001/75 | 映射传感器 | 310套 | 设备用途及基本要求: 映射传感器主要用于检测卡匣内玻璃基板位置分布的光电传感器。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY1500/USD250 |
| 4197-244ZLCP10001/76 | 除静电器 | 1631台 | 设备用途及基本要求: 除静电器主要功能用于基板表面静电的处理;静电监视器主要功能用于玻璃基板表面静电带电量检测。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY1500/USD250 |
| 4197-244ZLCP10001/77 | 超高压微射流清洗装置 | 29台 | 设备用途及基本要求: 本装置安装于基板投入清洗、成膜前清洗、阵列光刻胶剥离、阵列有机膜剥离(作为成膜前清洗使用时)、彩膜清洗、彩膜显影、成盒绝缘膜清洗等湿法设备内,用于增强设备的清洗能力。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY3000/USD500 |