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高真空磁控溅射仪（清采比选20250840号）成交结果公告

结果-中标通知

北京 -北京

发布时间： 2025年05月27日

标书代写官方

摘要信息

中标单位

中标金额

中标单位联系人

招标单位

招标编号

招标估价

招标联系人

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代理单位联系人

关键信息

磁控溅射比选公告

招标详情

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相关单位：

***********公司企业信息

项目名称项目编号公告开始日期公告截止日期采购单位付款方式联系人联系电话签约时间要求到货时间要求预算总价发票要求含税要求送货要求安装要求收货地址供应商资质要求公告说明

高真空磁控溅射仪	****
2025-05-22 11:30:49	2025-05-27 12:00:00
****	合同签订后70%，验收合格后30%

	签订合同后70个工作日内
￥ 390000.00




市**指定地点
符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购清单index

采购商品采购数量计量单位所属分类

高真空磁控溅射仪

台

品牌型号预算单价技术参数及配置要求参考链接售后服务

￥ 390000.00

产品型号 VTC-600GD 本设备要求在温度 25℃±15℃，湿度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水） 2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地 3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度 99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Φ6mm 双卡套接头）及减压阀 4、工作台：尺寸 1500mm×600mm×700mm，承重 200kg 以上 5、通风装置：需要主要参数 1、电源电压：220V 50Hz 2、总功率：＜3.5KW 3、腔体内径：Φ300mm，真空室材质 304 不锈钢。 4、极限真空 3.0x10 -5Pa，从大气开始抽气，50 分钟后可达 2.0x10 -4Pa。 5、真空计：复合真空计测量范围 1×10 5-1×10 -5Pa；薄膜规工作压强范围与精度 1330-0.133Pa,读数误差 0.5%，分辨率 0.003%F.S.。 6、靶枪数量：4 个(含一个强磁靶和三个普通靶)，靶极距：可调范围（60-100）mm 7、靶枪冷却方式：水冷 8、靶材尺寸：Φ2″，厚度 0.1mm-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 9、配有三套直流电源，直流溅射功率：500W 10、配有一套射频电源，射频溅射功率：300W 11、四套电源可支持单独溅射、轮流溅射与多靶共溅射。 12、载样台：Φ140mm，支持加热 RT-500℃，精度±1℃ 13、载样台转速：1rpm-20rpm 内可调 14、横向旋转样品台：可旋转，转速（1-30rpm 可调） 15、保护气体：Ar、N2 等惰性气体 16、进气气路：质量流量计控制 2 路进气，1 个流量为 100 SCCM，1 个流量为 200 SCCM 气体流量控制器准确度：准确度±1.5%F.S，线性±1%F.S，重复精度± 0.2%F.S。 15、产品规格： ﹒尺寸：主机尺寸：800mm×1000mm×1300mm； 1 直流电源控制系统 3 套 - 2 射频电源控制系统 1 套 - 3 膜厚监测仪系统 1 套 - 4 分子泵 1 台 - 5 聚酯 PU 管（Φ6mm） 4m 1、正常使用情况下，公司负责产品一年“三包”。（不包含配件耗材） 2、售后质保：提供设备的系统说明书、详细操作流程及外购配件仪器仪表说明书。在甲方现场验收后，一年内免费维修正常使用出现的故障，非正常的故障维修只核收工本费，终身维修只核收工本费。 3、以签订合同及收到预付款时间为起点，备货期间，****公司使用设备进行实验，（需自己携带靶材等相关耗材），此期间不收取任何加工费等费用

12个月