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| 原子层镀膜设备 | |
| 项目所在采购意向: | ****2025年7月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 原子层镀膜设备 |
| 预算金额: | 150.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****2402真空应用设备
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| 采购需求概况 : |
用于衬底上进行高精度介质膜如Al2O3、HfO2等的薄膜沉积,可实现高深宽比孔/槽的介质膜沉积,薄膜沉积精度可达原子级别。购置1台。通过精确的沉积控制和自动化功能,能够满足半导体、光电子和能源存储等领域科研人员对高精度介质薄膜沉积的需求,符合学科发展需
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| 预计采购时间: | 2025-07 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写