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| 高真空电阻蒸发镀膜设备 | 1.0/台(套) | 微纳真空 | VZZ-400 | 1. 真空腔室:净空间尺寸Φ400×H500mm; 2. 真空系统:分子泵抽速4320m3/h,前级泵抽速≥30m3/h,超高真空闸板阀,配备旁抽; 3. ★真空极限:优于2.5×10-5Pa; 4. 抽速:抽至4.0×10-4Pa≤18min; 5. 基片台:120×120mm,挡板尺寸≥φ145mm,转速0-25转/分连续可调,磁流体密封,水冷; 6. ★蒸发源:4组蒸发源,陶瓷绝缘结构,源上有气动水平打开式挡板,磁流体密封; 7. 蒸发电源:电源功率2.2 Kw /3Kw各一台,电流显示精度0.1安培,具备粗调微调功能; 8. 速率和膜厚监控:采用Inficon薄膜沉积控制仪在蒸镀过程中实时监控蒸发速率和膜厚,膜厚仪速率和厚度分辨率±0.015埃,可按设定速率蒸发; | 按行业标准提供服务(提供本地化安装调试及售后服务) |