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12吋高深宽比工艺氧化硅填充化学气相沉积系统
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***********公司企业信息
****2025年8至12月政府采购意向-12吋高深宽比工艺氧化硅填充化学气相沉积系统 详细情况
| 12吋高深宽比工艺氧化硅填充化学气相沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年8至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 12吋高深宽比工艺氧化硅填充化学气相沉积系统 |
| 预算金额： | 5260.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0300电子工业生产设备
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| 采购需求概况 ： |
该设备用于先进逻辑三维器件浅沟槽隔离填充，沉积薄膜成膜均匀性片内片间均小于1.5%，可以实现对<40nm的凹槽（Ar=3:1）无缝填充.成膜颗粒增加满足<20颗/片。采购数量1台。
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| 预计采购时间： | 2025-11 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2025-06-30
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