原子层沉积系统（XF-WSBX-2500283）采购公告

项目名称

原子层沉积系统

项目编号

****

公示开始日期

2025-07-03 14:59:09

公示截止日期

2025-07-10 16:00:00

采购单位

****

付款方式

货到付款，甲方在到货验收后15日内向乙方一次性支付本项目的总额

联系人

中标后在我参与的项目中查看

联系电话

中标后在我参与的项目中查看

签约时间要求

成交后30个工作日内

到货时间要求

成交后90个工作日内

预算

￥ 405,000

供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

收货地址

******港校区开物苑3****实验室

采购物品

是否允许进口

采购数量

计量单位

所属分类

原子层沉积系统

否

1

台

电子工业生产设备

品牌

迈纳德

规格型号

MNT-S100Oz-L3

预算

￥ 405,000

技术参数

1 配置及组成
1) 1套热型原子层沉积系统主机
2) 1套4寸反应腔
3) 1套常温液源输送系统
4) 2套加热源管路
5) 1套臭氧源系统
6) 1套真空系统
7) 1套备品备件
2 设备主机规格
1) 适用于4英寸以及小尺寸样品薄膜沉积
2) 设备本底真空优于3 Pa，设备漏率≤ 5×10-10 Pa﹒m3/s；
3) 控制方式：PLC+触摸屏
4) 多种沉积模式：快速模式、充分暴露模式和多元掺杂模式
3 反应腔系统：
1) 反应腔材质为316L不锈钢，底座整块材料加工，腔体表面抛光后电解；
2) 密封方式：采用燕尾槽密封并配备耐腐蚀密封圈；
3) 样品台尺寸：标准4英寸腔体，直径为100 mm；
4) 样品台加热温度最高可达400℃，采用PID控制方式，控制精度为±1℃；
5) 反应腔配备自动充气及过压保护功能；
4 前驱体源输送系统
1) 常温源1路，加热液源2路；
2) 前驱体输送管路加热温度范围RT-250℃，控制精度±1℃；
3) 常温源：配备三孔ALD阀门、源手动阀、不锈钢源瓶(50 mL)；
4) 加热源：配备三孔ALD阀门、源手动阀、不锈钢源瓶(50 mL)，源瓶温度范围RT-200℃；
5) 管路及接头均采用316 EP级电解抛光不锈钢材料，所有气体管路连接处采用金属VCR密封；载气管路采用N2或者Ar气体，通过MFC控制；配备惰性气体自清洗系统，在控制界面中可以设置自动清洗的次数。
5 臭氧源系统（和水共用1路）
1) 配备臭氧发生器、臭氧破坏器、MFC(量程0-200 sccm)；
2) 臭氧发生器产量可达20 g/h，浓度可达150g/m3；
3) 臭氧发生器采用风冷方式无需配备冷却水，尺寸不大于510*510*210 mm。
6 真空系统：
1) 真空泵采用双级油封式真空泵，抽速不低于14 m3/h；
2) 真空测量：配备进口压力传感器，检测范围：5*10-4-1000mbar；
3) 真空抽气管道可以烘烤至150℃，且真空泵前级配置热阱，温度范围RT-300 oC，控制精度±1℃；
7 控制系统
1） 采用高稳定性的PLC+工业触摸屏方式；触摸屏尺寸不小于15.6英寸；
2） PLC采用工业以太网控制方式，支持灵活扩展DeviceNet、CANopen、PROFIBUS DP等通信方式；
3） 系统可实现配方编辑、保存、读取等功能；ALD阀门及管路具备自动排空和清洗功能；
4） 系统设有高级界面，可进行温度PID参数自整定、前驱体标签修改等；
5） 系统可实时监测动力气体压力值、系统压力值、加热状态、阀门开关状态和镀膜进度，当发生异常时触发报警并做出响应，报警日志可进行回看；
8 验收指标：
厂家须提供氧化铝薄膜的标准工艺配方，前驱体为三甲基铝+水，按以下内容进行现场制备与验收：
薄膜均匀性：在4英寸晶圆上沉积300cycle氧化铝，以晶圆上5个均匀分散点（上、下、左、右、中心5点，边缘5mm除外）进行椭偏仪测试膜厚， 4英寸晶圆上薄膜不均匀性≤1%。

售后服务

电话支持:7x24小时;质保期:1年;服务时限:报修后2小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;