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高真空磁控溅射系统一套（ZBZXHB2025018）采购公告

公告-招标公告

四川 -成都

发布时间： 2025年07月10日

摘要信息

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磁控溅射采购公告

招标详情

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项目名称项目编号公告开始日期公告截止日期采购单位付款方式联系人联系电话签约时间要求到货时间要求预算总价发票要求含税要求送货要求安装要求收货地址供应商资质要求公告说明

高真空磁控溅射系统一套	****
2025-07-10 14:40:00	2025-07-15 15:00:00
****	请查看比选文件

	合同签订后150个日历日内
￥990000.00




**校区第一理科楼楼中124 房间
符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购清单1

采购商品采购数量计量单位所属分类

高真空磁控溅射系统

台

其他试验仪器及装置

品牌型号预算单价技术参数及配置要求参考链接售后服务

￥ 990000.00

该设备具有可控制的磁场、稳定的氩气控制方案，主要用于在超高真空环境中制备单层、多层薄膜，主要为多层金属薄膜、合金薄膜、半导体材料薄膜、氧化物薄膜等；溅射方式主要有直流溅射以及射频溅射。一、真空系统： 1.▲超高真空304不锈钢圆柱体反应腔体，尺寸不小于450mm高×350mm直径；腔体顶部采用橡胶圈密封，底部采用金属密封；采用前开门设计，方便打开腔体；主腔体配备不少于1个6英寸观察窗，带手动挡板； 2.★极限真空度：8×10－5Pa； 3.恢复真空时间：大气至3×10－3Pa≤15min； 4.保真空：达到极限真空度后，关闭高真空阀一小时，真空室真空度≤7×10-1Pa； 5.▲电动蝶阀采用伺服控制，用于自动恒真空系统，使溅射使真空保持恒定。 6.★真空系统配置：分子泵和前级泵组合，配软抽阀及软放阀(可减少真空室排大气时湍流对工件的影响), 管道通径为16mm，真空系统管道采用不锈钢材料，管道软连接处采用金属波纹管；各真空阀门为气动阀门。二、工艺能力： 1.制造商需要配合用户做工艺设计和工艺参数调整； 2.★制造商需具备一定的技术基础与工艺能力，采用磁控溅射单一技术，制备Ni金属单质薄膜，厚度≥300nm，基底尺寸要求＞φ50mm，基底材质为PI基材），并在投标时提供样品的测试数据（附在投标文件中）。要求样品肉眼观察无明显裂纹，背面用光源照射时也不会出现明显裂纹。 3.▲根据工艺要求，设备成膜均匀性最优可达（SiO2）：±1.5% @ 200mm基片（去除边缘5mm）；三、样品台系统： 1.★样品台具备溅射4英寸基片的能力并向下兼容，安装在真空腔顶部，向上溅射，样品台配置最高温度不低于800℃，加热系统采用控温精度±1℃； 2.▲样品台可调工作距离不少于70mm，铝合金材质； 3.工件转动的动密封为磁流体密封，工件盘轴向、径向跳动≤±2.5%；四、电源和靶系统： 1.★主腔室底部配置不少于3套4英寸（使用直径4英寸的靶材）靶枪； 2.所有靶枪均配备独立的气动挡板和套筒，防止靶材交叉污染； 3.所有靶枪适应直流电源或射频电源工作模式； 4.★靶枪电源包括：不少于2套功率500W直流电源，带专用4路切换器，通过切换器，其中1个直流电源可连接4个靶枪，通过电脑控制切换给不同靶枪供电；不少于1套功率600W射频电源，带自动匹配网络及输出电缆；五、电控系统： 1.▲控电柜采用一体式，仪表安装柜采用非标准英尺寸，另一侧作为电器元件安装柜结构为大板式，便于安装维护，元器件损坏时应易于检测和更换； 2.★配不小于15寸触摸屏控制功能，具有良好的人机界面与操作功能，可实现溅射镀膜过程全自动化控制，从排气到溅射镀膜结束整个过程一键式自动控制，安全连锁的操作系统； 3.控电柜内主要电器外购件均选用通过CE认证或ISO9001认证的生产厂商的产品，确保安全可靠。六、样品处理装置 1. 加热板材质：陶瓷涂层铝合金 2. 搅拌速度：50-1500rpm 3. 温度范围：室温-320℃ 4. 具备计时功能 5. 具备自动反转功能七、配置清单 1. 真空腔体1套； 2. 分子泵和直联泵各1套； 3. 射频电源2套，直流电源1套； 4. 电控一体机1套； 5. 冷却循环水1套； 6. 样品处理装置1套； 7. 满足招标要求的其他配置；标书代写

服务年限:12月;电话支持:7x24小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:一年;