[BA202500812]高真空磁控离子溅射仪采购项目备案公示公告(更正)

发布时间: 2025年07月12日
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[****]高真空磁控离子溅射仪采购项目备案公示公告(更正)
发布时间:2025-07-12 16:07:25
采购信息
项目编号 项目名称 经办人单位 经办人 预算金额 成交金额 成交供应商 质保期 发票要求 联系地址 发票要求 付款方式 供应商联系手机 交货时间 交货地址 交货方式 包装及运费 验收方式 售后服务要求 采购材料
****高真空磁控离子溅射仪采购项目
****学院宋洪烈
299800.00 人民币299800.00 人民币
****12 月
乙方所提供的产品用途为“科技开发、科学研究、教学设备”时,****大学开具增值税专用发票。
**市-市辖区-**市**区岚丰路1150号8幢1165室 采购单位 **大****学院

乙方所提供的产品用途为“科技开发、科学研究、教学设备”时,****大学开具增值税专用发票。

货到验收合格办理相关手续后100%付款。
131****0476成交单签订后20天内交货
**省-**市-人民大街5988****大学南岭校区仿生楼222
乙方免费将产品送达甲方用户单位指定地点。
由乙方免费提供及承担
以成交单为准,参考相关内容进行验收。验收程序以甲方职能部门规定为准。
卖方提供12个月的质保,维护,并且提供专业的技术支持。 交货方式:卖方免费将产品送达甲方用户单位指定地点。 包装及运费:由卖方免费提供及承担。
真空镀膜-采购评测.pdf 真空镀膜-自主备案-附件1.docx
明细清单
采购品目 品牌名称 名称 产地及生产商 规格型号 数量 计量单位 保修年限 单价 总价 主要技术参数
其他金属加工设备**众濒
高真空磁控离子溅射仪中国-****
CIS400TD1
1 年
299800.00 人民币299800.00 人民币
1.腔体尺寸及靶材功能参数: 1.1占地尺寸不超过500(L)×500(W)(单位cm);真空室采用高透光率的硼硅玻璃,内径不小于180mm,高度不低于125mm;具备可旋转样品台,转速可调,最高转速不小于20转/分;具备预溅射挡板,确保镀膜纯度,减少污染。 1.2溅射靶头采用平面磁控靶设计,数量不少于2个,既可以镀金属和单质膜层,也可以镀无机非金属膜层;内置不少于20种靶材溅射参数,包括金、铂、铬、钨、钛、铝、镍等常用靶材和ITO、AZO等非金属氧化物靶材,可一键调用; 1.4镀金属膜层的工作电流最大不小于200mA,最小不大于5mA,步进量为1mA;镀无机非金属膜层的最大工作功率不小于150W; 1.5具备加热模块,可实现镀膜时衬底加热,温度最高200℃。
信息咨询
**大学招****管理中心

设 备 类:林老师: 0431-****7310

工 程 类:白老师: 0431-****7313

服务及其他货物:李老师: 0431-****7309

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2025-07-12
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