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| 全自动磁控离子溅射仪 | 1.0/ | 格微 | GVC-2000P | 溅射靶头:低电压平面磁控溅射; 主机尺寸:480(L)×360(D)×350(H); 显示屏:7英寸彩色触摸屏 ; 真空室:φ200(O.D.)×130(H)mm; 真空泵 旋片泵:(可选配螺杆干泵); 真空泵尺寸:445(L)×144(D)×217(H)mm ; 真空测量:皮拉尼真空规; 样品台:φ125mm ; 操作方式:一键操作(全自动); 工作电流:2-100mA连续可调 ; 真空测量:皮拉尼式真空规管; 工作介质:推荐氩气,也可使用空气 ; 输入电源:220V/100W(50/60Hz); 可用靶材:Au、Pt、Ag、Cu等; 靶材尺寸:φ57×0.1 mm; 真空室材质:高透光高硼硅玻璃; 抽速:2.2L/s; 真空泵电源:220V 450W(50/60Hz); 极限真空:≤1Pa ; 样品台转速:4-20rpm可调; 保护功能:过流保护、真空保护; 工作时间:1-999s连续可调; 工作真空:4-20Pa ; 连接管路:304不锈钢波纹管 ; 预溅射:全自动预溅射挡板,可去除靶表面的吸附物,提高膜层纯度; 氩气冲洗:专业级氩气冲洗,可自定义冲洗压力,充气及抽空时间; 选配 : 1. 膜厚监控组件:设定范围0-999.9nm,可精确控制镀层厚度 2. 样品台加热组件:室温-200℃自动控制 3. 多功能样品:倾斜旋转台、行星旋转台等。 | 按行业标准提供服务 |