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低应力掩膜等离子体增强钝化设备
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***********公司企业信息
****2025年7至12月政府采购意向-低应力掩膜等离子体增强钝化设备 详细情况
| 低应力掩膜等离子体增强钝化设备 | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年7至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 低应力掩膜等离子体增强钝化设备 |
| 预算金额： | 320.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****1100航天专用工艺设备
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| 采购需求概况 ： |
1）薄膜沉积温度：>350°C; 2）薄膜应力：<-100MPa(折射率1.50); 3）片内厚度均匀性(6英寸硅晶圆去边 5mm)：<+3%;
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| 预计采购时间： | 2025-08 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2025-09-17
2025-08-27
2025-08-26
2025-08-05
2025-07-25
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