发布时间 : 2025-07-29
****高精密半导体光掩模基板与高世代FPD****基地项目环境影响评价文件拟审批前公示
我单位拟对****高精密半导体光掩模基板与高世代FPD****基地项目环境影响报告表做出审批决定。为保证审批工作的严肃性和公正性,现将环评相关情况予以公示。公示时间2025年7月29日-2025年8月4日(5个工作日)。
联系电话:0731-****0991
联系地址:****开发区****服务大厅421室
邮编:410331
听证告知:依据《中华人民**国行政许可法》,自公示之日起五个工作日内申请人、利害关系人可对以下拟作出的建设项目环境影响评价文件批复决定提出听证申请。
| 项目名称 | ****高精密半导体光掩模基板与高世代FPD****基地项目 |
| 建设地点 | ****开发区****侧、**路东侧 |
| 建设单位 | **** |
| 环境影响评价机构 | ******公司 |
| 项目概况 | ****购买**经开区****侧、**路东侧地块,拟投资100000万元建设高精密半导体光掩模基板与高世代FPD****基地,项目拟建设5栋建筑,包括1#生产厂房、2#生产厂房、3#生产厂房、4#动力厂房、5#仓库,引进先进的抛光、清洗、检测、涂胶、镀膜等生产设备和辅助设施,生产高端光掩模基板,总设计产能为年产高精密半导体光掩模基板40000片,高世代FPD光掩模基板4500片。 |
| 主要环境影响及预防或者减轻不良环境影响的对策和措施 | 1)废气 本项目酸碱废气经密闭车间内集气罩收集+碱液喷淋塔处理后经排气筒高空排放,氟化物、硫酸雾的排放浓度和排放速率可满足《大气污染物综合排放标准》(GB16297-1996)表2二级标准,氨、臭气浓度满足《恶臭污染物排放标准》(GB14554-93)表2标准。涂胶废气在涂胶机密闭空间内产生,由密闭管道收集,经二级活性炭吸附处理后经排气筒高空排放,VOCs(非甲烷总烃)排放浓度和排放速率可满足《大气污染物综合排放标准》(GB16297-1996)表2二级标准。无组织排放废气中氟化物、硫酸雾、氯化氢、氨浓度可满足《大气污染物综合排放标准》(GB16297-1996),氨、臭气浓度可满足《恶臭污染物排放标准》(GB14554-93)表1标准限值,厂区内非甲烷总烃可满足《挥发性有机物无组织排放控制标准》(GB37822-2019)中表A.1排放限值。 2)废水 本项目含铬废水经预处理+反渗透+多效蒸发处理,不外排;含氟废水加氯化钙沉淀预处理,抛光废水混凝沉淀预处理,预处理后的废水与酸碱废水混合后中和处理进入A2O生化处理工序处理,生活污水经化粪池处理,排入市政污水管网,****处理厂深度处理,对地表水环境影响小。 3)噪声 本项目主要噪声源为切割机、研磨机、抛光机、清洗机、镀膜机、纯水机、中央空调等,通过选用低噪声设备、采取基础减振、墙体隔声等措施,厂界噪声可达到《工业企业厂界环境噪声排放标准》(GB12348-2008)3类标准,对周边声环境影响不大。 4)固体废弃物 本项目运营期产生的生活垃圾****园区环卫部门处置;废包装材料、镀膜工序前废弃工件、废滤芯、废反渗透膜****回收部门回收再利用;废弃化学原料包装、镀膜工序后废弃工件、废光刻胶、清洗酸碱废液、废活性炭、废靶材、含铬废水蒸发残渣及含铬污泥等危险废物按《危险废物贮存污染控制标准》(GB18597-2023)要求进行分类收集、贮存,定期委托有资质单位按《危险废物转移管理办法》要求进行转移、处置。 |
****开发区****委员会办公室
2025年7月29日