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| 超高真空激光脉冲沉积系统 | |
| 项目所在采购意向: | ****2025年9月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 超高真空激光脉冲沉积系统 |
| 预算金额: | 202.500000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****2402真空应用设备
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| 采购需求概况 : |
拟采购超高真空激光脉冲沉积系统一套。该设备主要用于以激光脉冲方式实现单晶和多晶氧化物薄膜、金属薄膜、生物陶瓷薄膜等功能薄膜的高精度制备。设备由真空镀膜室和激光器组成。镀膜室的极限真空优于 lt;5E-10 mbar,配备4个2英寸旋转靶,配备晶振薄厚仪。薄膜沉积温度:室温 - 800 摄氏度。靶材与样品间距可调,范围:30-90 mm。配备便利的软件控制系统,能够对镀膜过程实现便利的自动控制。
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| 预计采购时间: | 2025-09 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写