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| 磁控溅射仪采购项目 | |
| 项目所在采购意向: | ****2025年08月至2025年09月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 磁控溅射仪采购项目 |
| 预算金额: | 195.000000万元(人民币) |
| 采购品目: | |
| 采购需求概况 : |
采购内容:真空应用设备 采购数量:1.0000台 主要功能或目标:用于制备高均匀性、高质量的微纳器件中的透明导电膜层、电极层等功能性膜层,实现器件功能的优化及特性的研究 需满足的要求:技术规格:配备4个2英寸靶枪、2个500w直流电源、2个300w射频电源、500℃样品台; 服务要求:180天内供货,质保不少于1年; 验收要求:膜层均匀性<±3%,极限真空:<4×10-7mbar
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| 预计采购时间: | 2025-09 |
| 备注: |
无
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本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写