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多靶共焦式磁控溅射
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6000000.00
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zycgr220****32025年8至12月政府采购意向-多靶共焦式磁控溅射 详细情况
| 多靶共焦式磁控溅射 | |
| 项目所在采购意向： | zycgr220****32025年8至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr****1903 |
| 采购项目名称： | 多靶共焦式磁控溅射 |
| 预算金额： | 600.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0699其他试验仪器及装置
|
| 采购需求概况 ： |
脑机接口神经电极中试平台需要具备全流程微纳加工能力，磁控溅射是电极制造中金属互连层、电极接触层、导电通道、封装阻挡层等关键薄膜的核心工艺。（两台）
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| 预计采购时间： | 2025-08 |
| 备注： |
脑机接口神经电极中试平台需要具备全流程微纳加工能力，磁控溅射是电极制造中金属互连层、电极接触层、导电通道、封装阻挡层等关键薄膜的核心工艺。（两台）
|
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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