高精密光学镀膜机系统(清采比选20251355号)采购公告

发布时间: 2025年08月09日
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项目名称 项目编号 公告开始日期 公告截止日期 采购单位 付款方式 联系人 联系电话 签约时间要求 到货时间要求 预算总价 发票要求 含税要求 送货要求 安装要求 收货地址 供应商资质要求 公告说明
高精密光学镀膜机系统****
2025-08-09 08:34:372025-08-12 09:00:00
****合同签订后30%,发货前55%,验收合格后3个月内15%
签订合同后65个工作日内
¥ 480000.00
科创十街19号院地下3层

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购清单index
采购商品 采购数量 计量单位 所属分类
高精密光学镀膜机系统 1
品牌 型号 预算单价 技术参数及配置要求 售后服务
**国泰
¥ 480000.00
(1) 镀膜材料 高精密光学镀膜机应支持蒸发 Au,Cr,Al,SiO2,Si,ZrO2,TiO2,Ta2O5 等镀膜材料进行光学膜层镀制,允许使用工艺气体 Ar 和 O2。 (2) 基板旋转系统及加热系统 ****中心驱动,工作时的旋转速度可设定调整,自动镀膜时可自行切换工件旋转速度并能根据设定速度自动切换,加热系统配置温控仪,控制方式为PID 自动控制及显示,温度可编程控制,多组控制参数设定,设定最大烘烤温度≥200℃,温度可控可调。 (3) 蒸发源 蒸发源系统包括高压电源(速度脉冲额定技术,瞬时抑弧反应),灯丝电源(包括阴极加热,发射控制器),电子束偏转电源。完全整合入镀膜机自带控制系统,在坩埚表面提供一个可编辑的电子束光斑,在 X 和 Y 方向点偏转扫描震动(图形模式),在设定的点位之间采用线性连接。配置 2 支 270°E 型电子枪,可通过改变磁场,使电子束扫描整个膜料表面,避免了“挖坑”现象的出现。最大功率 10KW,输出稳定性小于±2%,发射电流 0-1000mA,稳定性±2%。 配置有直冷坩埚,采用光电编码器对坩埚进行精确定位,配置电动转位和点动转位,能够实现自动正反转。 (4) 离子源 霍尔离子源可以通过轴向磁场使工艺气体等离子体化,轴向磁场的强烈不平衡将气体离子分离成离子束,离子源可以有效减少薄膜的微结构损伤和空隙,在合适的离子源参数下制备的薄膜具有质量好(硬、化学稳定、低应力),致密度高等特性。霍尔离子源包括阳极结构,阴极中和器,流量计等,氩气流量计最大流量不低于 50 sccm,氧气流量计最大流量不低于 50 sccm。 (5) 膜厚监控系统 高精密光学镀膜机应配置膜层物理厚度监控系统,用于镀膜速率和膜厚测量,由系统控制,并通过显示器进行操作(包括输入设定参数,显示实际数据等)。常用的控制膜厚方法包括石英晶体监控,可自动记录蒸发速率,镀膜控制系统的主要性能包括自动熔料功能,自动镀膜功能,Essential Macleod 的 runsheet 的设计数据变换功能,过程数据记录功能。该设备在光学镀膜工艺中可实现单层金属膜或介质膜 2%的膜厚均匀性(膜层厚度小于 10um,基底为 4 寸晶圆)。
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