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| ********学院超高真空磁控多靶位共溅射系统采购项目 | |
| 项目所在采购意向: | ****2025年8至12月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | ********学院超高真空磁控多靶位共溅射系统采购项目 |
| 预算金额: | 294.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****0699其他试验仪器及装置
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| 采购需求概况 : |
名称:超高真空磁控多靶位共溅射系统。数量:1套。主要性能和技术指标:1、可定制超高真空腔体,符合高真空要求的不同尺寸法兰口;极限真空可达3×10-8mbar。2、配备全量程规,薄膜规等实现气压的检测与反馈。3、基片夹具,满足4inch基片的夹取需求,可加热至850摄氏度,溅射距离可调。4、进气系统:配备3路100sccm流量计实现工艺气体的注入。5、配备2inch阴极5套,可以实现4inch基片的均匀沉积。6、配备4套直流电源(输出精度电压、电流或功率的标称值的±1%)和1套射频电源实现薄膜的制备。采购标的需满足的质量、服务、安全和时限等要求:满足采购人在技术需求中的要求。
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| 预计采购时间: | 2025-09 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写