深圳医学科学院深紫外光刻机 (DUV)意向公开

发布时间: 2025年08月26日
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****深紫外光刻机 (DUV)意向公开
采购单位: ****
项目名称: 深紫外光刻机 (DUV)
预算金额(元): 90,000,000.000
采购品目: 其他光学仪器
采购需求概况: 名称:深紫外光刻机(DUV)
主要功能:在光刻胶、薄膜等材料上加工微米至纳米级图形。
采购数量:1台
质量要求:
光源及照明系统:光源功率20 W,光束传输小于等于20 m,波长248 nm ,KrF激光技术和可变激光频率控制装置,将高激光功率与高效利用激光脉冲相结合。
投影系统:0.55-0.80可变数值孔径深紫外光投影透镜。
分辨率(Critical Dimension):≤110 nm
0.11 μm分辨率下的CD变化量:
密集线条:±0.2 μm离焦时 ≤10 nm;最佳焦平面时 ≤8 nm
孤立线条:±0.15 μm离焦时 ≤14 nm;最佳焦平面时 ≤8 nm
曝光视场均匀性:≤0.7 %
单台设备套刻精度(Single-machine overlay):≤15 nm
匹配设备间套刻精度(Matched-machine overlay):≤25 nm
运动平台移动重复性:≤8 nm
曝光剂量重复性:≤ 0.5%,当剂量≥10 mJ/cm2时
曝光剂量准确性:≤ 1%,当剂量≥10 mJ/cm2时
焦平面测量重复性(3-sigma):≤50 nm
光罩交换时间:≤25 s
颗粒物增加数:≤5
作业间等待时间:≤20 s
在50 mJ/cm2曝光计量下,产能≥135 wph
服务要求
1.安装与培训调试:
供应商需提供专业的安装调试服务,提供全面的操作培训和维护培训,
确保设备正常运行。
2.售后服务:
提供3年保修服务。
保修期内免费提供维修和更换服务。
提供24小时技术支持热线,快速响应故障报修。
设备供应商须提供不少于100小时的技术工时支持(Labor hour pool)。
安全要求:设备需符合相关国标电器安全标准(如CE认证)。
时限要求:合同签订后12个月内完成交货。
联系人: 张老师
联系电话: 0755-****0028
预计采购时间: 2025-08
备注:
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