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深圳大学多腔磁控溅射仪意向公开
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***********公司企业信息
****多腔磁控溅射仪意向公开
| 采购单位: | **** |
| 项目名称: | 多腔磁控溅射仪 |
| 预算金额（元）: | 7,500,000.000 |
| 采购品目: | 真空应用设备 |
| 采购需求概况: | 主要功能是制备高质量的薄膜材料，实现多层、多组分或梯度薄膜的精密沉积。它通过在不同真空腔室内独立完成溅射过程，避免交叉污染，从而确保薄膜的纯度和性能。 该设备需满足以下要求： 质量：薄膜沉积均匀性高，厚度控制精确，纯度高，结构致密，性能稳定可重复。 服务：提供稳定的技术支持，包括设备安装、调试、操作培训及后续维护。 安全：严格遵循高压、真空和高温操作的安全标准，具备完善的故障保护和报警系统，确保操作人员和设备安全。 时限：具备高效的镀膜速度和稳定的运行周期，以满足科研或生产的时效性要求。 |
| 预计采购时间: | 2025-10 |
| 联系人: | 刘老师 |
| 联系电话: | 0755-****7623 |
| 备注: | 无 |
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