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| 超导金属磁控溅射、电阻金属磁控溅射 | |
| 项目所在采购意向: | ****2025年10月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 超导金属磁控溅射、电阻金属磁控溅射 |
| 预算金额: | 460.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****9900
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| 采购需求概况 : |
分别采购一台三腔室镀膜和双腔室镀膜机,其中三腔室镀膜机用于磁控溅射制备超导探测器的金属Nb和Al薄膜,主腔室8寸靶枪,6英寸不均匀度≤3%,loadlock腔带离子刻蚀以及静态氧化功能样品座具备无氧铜冷却功能,副腔室6英寸不均匀度≤5%;双腔室镀膜机用于电阻金属溅射沉积,loadlock腔带离子束刻蚀以及无氧铜冷却功能,镀膜4英寸不均匀度≤5%。
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| 预计采购时间: | 2025-10 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写