超导金属磁控溅射、电阻金属磁控溅射

发布时间: 2025年09月09日
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****2025年10月政府采购意向-超导金属磁控溅射、电阻金属磁控溅射 详细情况
超导金属磁控溅射、电阻金属磁控溅射
项目所在采购意向: ****2025年10月政府采购意向
采购单位: ****
采购项目名称: 超导金属磁控溅射、电阻金属磁控溅射
预算金额: 460.000000万元(人民币)
采购品目:
A****9900
采购需求概况 :
分别采购一台三腔室镀膜和双腔室镀膜机,其中三腔室镀膜机用于磁控溅射制备超导探测器的金属Nb和Al薄膜,主腔室8寸靶枪,6英寸不均匀度≤3%,loadlock腔带离子刻蚀以及静态氧化功能样品座具备无氧铜冷却功能,副腔室6英寸不均匀度≤5%;双腔室镀膜机用于电阻金属溅射沉积,loadlock腔带离子束刻蚀以及无氧铜冷却功能,镀膜4英寸不均匀度≤5%。
预计采购时间: 2025-10
备注:

本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写

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2025-09-09
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超导金属磁控溅射、电阻金属磁控溅射
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