离子溅射与刻蚀系统

发布时间: 2025年09月11日
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****2025年9至10月政府采购意向-离子溅射与刻蚀系统 详细情况
离子溅射与刻蚀系统
项目所在采购意向: ****2025年9至10月政府采购意向
采购单位: ****
采购项目名称: 离子溅射与刻蚀系统
预算金额: 244.000000万元(人民币)
采购品目:
A****0910金属表面处理设备
采购需求概况 :
离子束溅射与刻蚀系统主要承担任务为高致密高质量超薄氧化物、氮化物、硫化物薄膜的沉积,作为种子层诱导高结晶度薄膜的生长或实现高质量界面层材料制备,该设备同时还承担纳米级离子刻蚀抛光和离子微注入等微纳光电器件加工,对于高性能新型叠层光伏器件以及实现光催化材料和器件的有序微纳加工具有关键作用。
预计采购时间: 2025-09
备注:

本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写

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