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真空多腔体磁控溅射系统
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***********公司企业信息
****2025年10月政府采购意向-真空多腔体磁控溅射系统 详细情况
| 真空多腔体磁控溅射系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年10月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 真空多腔体磁控溅射系统 |
| 预算金额： | 390.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****9900其他仪器仪表
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| 采购需求概况 ： |
真空多腔体磁控溅射系统，1台，真空多腔体磁控溅射系统要求为：1）真空度：≤ 6.7*10（-5） Pa；2）射频源功率：≥ 500 W；3）薄膜均匀性：±5 % （for 4 inch）；4）沉积温度：室温至500°C。供货期：签订合同之日起，24个月内货到采购人指定地点并安装验收完毕。具体事宜由成交供应商按采购人指定地点及时间安排要求执行。
|
| 预计采购时间： | 2025-10 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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2025-09-12
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