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磁控溅射原子级功能薄膜沉积系统
招标详情
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***********公司企业信息
****2025年10至12月政府采购意向-磁控溅射原子级功能薄膜沉积系统 详细情况
| 磁控溅射原子级功能薄膜沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 磁控溅射原子级功能薄膜沉积系统 |
| 预算金额： | 200.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****2402 真空应用设备
|
| 采购需求概况 ： |
****拟采购磁控溅射原子级功能薄膜沉积系统一套，用于制备原子级磁性、金属和氧化物的高质量单层或多层异质结薄膜。主要采购需求如下：（1）靶材直径 2/4英寸（靶位需要8靶位）；（2）真空度: 不低于 7×10^-9Torr；（3）溅射气体3路管路: 氩气、氧气、氮气；（4）温度控制: 具备加热和冷却功能，温度范围：室温至800摄氏度，稳定温度控制精度正负0.5摄氏度；（5）支持多层薄膜沉积，具备原子级精确厚度控制；（6）传样腔load lock需配备一个超高真空氩离子枪（加速电压＞500kV），用于刻蚀样品；（7）质保期：2年。
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| 预计采购时间： | 2025-11 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2026-02-06
2026-01-22
2025-12-31
2025-09-16
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