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| 1 | 超快激光光刻机 | 高能并行多焦点光刻系统一套;普遍适用于各种材料蚀刻加工、以及透过率材料改性微结构、光敏材料打印悬垂微构件等。可实现500个以上并行多焦点,同时支持单焦点可编辑,同时支持780nm和515nm光刻,配备时域聚焦光路,支持全自动拼接打印, 自动对焦和自动调平。大面积DOE制造时间小于15 min.(5 mm x 5mm @ 500 nm) |
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