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| 无掩膜激光直写光刻机 | |
| 项目所在采购意向: | ****2025年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 无掩膜激光直写光刻机 |
| 预算金额: | 200.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****0204 半导体器件参数测量仪
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| 采购需求概况 : |
****拟采购无掩膜激光直写光刻机一套,主要用于微纳尺度下,直接通过计算机控制激光束进行高精度、定制化的复杂二维或三维结构加工与制备。主要采购需求如下:1)工作方式:无掩膜激光直写光刻;2)最大曝光面积:≤150mm*150mm;3)最大基板厚度:10mm;4)极限解析:≤600nm;5)套刻精度:≤800nm@2inch;6)主动聚焦范围:≥±100μm;7)线宽均匀性:≤80 nm@CD800nm;8)曝光区域温度稳定性:± 0.5 ℃;8)曝光面能量均匀性:≤5%;9)最大产能:≥50mm2/min @0.8μm;10)光源:LD光源,功率3W,波长375nm;11)具备自动对准功能;12)具备自定义标记对准功能;12)具备可视化定点曝光功能;13)具备不规则样片曝光功能;14)质保期:1年。
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| 预计采购时间: | 2025-10 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写