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北京科技大学先进制程非硅新材料干法刻蚀系统
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***********公司企业信息
****2025年9至12月政府采购意向-****先进制程非硅新材料干法刻蚀系统 详细情况
| ****先进制程非硅新材料干法刻蚀系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年9至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | ****先进制程非硅新材料干法刻蚀系统 |
| 预算金额： | 700.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****9900其他仪器仪表
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| 采购需求概况 ： |
（一）采购标的名称：先进制程非硅新材料干法刻蚀系统 （二）采购标需实现的主要功能或者目标 先进制程非硅新材料干法刻蚀系统主要由低损伤等离子刻蚀（RIE）刻蚀机和原子层刻蚀的ICP和ALE刻蚀机组成。低损伤RIE刻蚀机主要用于低损伤二维材料图案化刻蚀，可将制备的二维材料刻蚀成预制的图案，方便电路的构筑。ALE刻蚀技术主要对二维材料进行单原子层的逐层去除，实现无损伤且精度高的原子级别刻蚀，满足器件中沟道和接触材料低损伤和高精度的表面处理需求。ICP主要实现高精度、高各向异性图形转移，适应集成电路复杂工艺流程中对多种材料的差异化刻蚀需求，制造出晶体管、互连线、电容等纳米尺度的器件结构。 （三）采购标的数量：1套 （四）采购标需满足的质量、服务、安全、时限等要求 合同签订并收到预付款或者LC后12个月内交货，自验收合格之日起质保期不少于一年。各项技术参数符合相关国家标准以及采购技术要求。须提供在售全新设备，不得为停产型号或翻新机。
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| 预计采购时间： | 2025-10 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2025-11-19
2025-09-24
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