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半导体专用****基地建设项目(园二**侧、G228东侧地块工业用房项目)已于2025年9月26日取得建设工程规划许可证,现将该建设项目主要规划
审批情况予以公告。
证号:建字第****812025GG****539号
建设单位(个人) :****
建设项目名称:半导体专用****基地建设项目(园二**侧、G228东侧地块工业用房项目)
建设位置:**市低塘街道黄湖村
建设规模:叁拾万玖仟壹佰陆拾点零柒平方米(其中地下建筑面积18169.72平方米)
注:1、取得此证后一年内未取得施工许可证,此证自行失效。如需延期,应当在期满前三十日内提出申请。2、工程竣工后六个月内向资规部门申请竣工
验收后核发**省建设工程规划用地核实确认书。
****规划局
2025年9月26日