原子层沉积系统

A****2402真空应用设备

名称：原子层沉积系统 2、目标：对核孔膜材料进行封装或表面修饰，能够满足TR3及TR6终端辐照的核孔膜宽幅，实现在米级核孔膜表面沉积多种氧化物。 3、数量：1套。 4、技术指标： （1）腔室有效镀膜区域不小于600 mm×1200 mm,可同时放2片600 mm×1200 mm基底；（2）极限真空≤0.006 Torr，由全量程规和薄膜规组成的真空计组，测量范围5×10-5 Torr-大气压，精度满量程的±1%；（3）腔体加热温度范围：室温-300℃，控制精度±1 ℃；（4）4路金属前驱体系统，源瓶容量≥1 L，源瓶和管路可加热至150 ℃；（5）氧源：1 套水源，配置≥1L 直通源瓶；1 路臭氧源，含臭氧发生器；（6）载气系统：2 路N2，可接入氮气，质量流量计+气动阀控制；（7）具备报警系统：具有火焰报警系统，当检测到火焰，切断电源并报警；具有冷却水、CDA、N2 传感系统，当厂务冷却水、CDA、N2压力不满足使用条件时，停止工艺并报警；（8）包含控制系统，可实现沉系过程自动控制；（9）工艺交付，可实现SiO2, Al2O3，SnO2等材料的稳定沉积，包含低温工艺，沉积温度不超过100℃；（10）厚度均匀性≤±5%。 5、质量和服务：（1）投标方需为本项目配备足够的售后服务力量，具有国内本地化的服务团队。（2） 投标方售后服务响应时间：电话响应时间要求2小时内，到场响应时间要求2个工作日内（指从接到报障至到达故障现场的时间）。（3）投标方免费提供技术支持热线电话。（4）投标方免费提供Email技术支持，并且在2小时内回复。（5） 投标方提供仪器设备的免费保修期主机一年，配件一年（保修期内免费维修并更换除消耗品以外的零部件，维修人员的路费、食宿等自理）。（6）投标方提供该设备的技术使用说明书及外购配件仪器说明书，并指导在使用该设备时的操作注意事项等。（7） 投标方提供配套软件至少三年的免费升级服务。 6、时限：合同签订后的6个月内交货。