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哈尔滨工业大学（深圳）三工艺腔磁控溅射设备意向公开
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****三工艺腔磁控溅射设备意向公开
| 采购单位: | **** |
| 项目名称: | 三工艺腔磁控溅射设备 |
| 预算金额（元）: | 7,400,000.000 |
| 采购品目: | 核技术应用设备 |
| 采购需求概况: | 设备需配置3套工艺腔室、1套自动传输转接腔、1套Load Lock腔，可实现金属溅射工艺、碳膜溅射工艺以及绝缘材料溅射工艺；腔室最高工艺温度≥1200°C；极限真空≤1.0E-7Pa；压升率≤0.3Pa/h；支持最大晶圆尺寸6英寸；膜厚均匀性≤±3%。 |
| 联系人: | 简老师 |
| 联系电话: | 0755-****1954 |
| 预计采购时间: | 2025-11 |
| 备注: | 无 |
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2025-09-30
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