招标详情
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400-688-2000
项目名称
| 高真空蒸发镀膜系统 | 项目编号
**** |
公告开始日期
| 2025-10-16 13:20:04 | 公告截止日期
2025-10-21 14:00:00 |
采购单位
| **** | 付款方式
货到验收合格办理相关手续后100%付款。 |
联系人
| 联系电话
|
签约时间要求
| 到货时间要求
国内合同签订后60个日历日内 |
预算总价
| ¥650000.00 |
发票要求
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含税要求
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送货要求
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安装要求
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收货地址
| **** |
供应商资质要求
| 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
公告说明
|
采购商品 采购数量 计量单位 所属分类
| 高真空蒸发镀膜系统 |
2 |
台 |
其他试验仪器及装置 |
品牌
| **光拓 |
型号
| GT400-S8 |
预算单价
| ¥ 325000.00 |
技术参数及配置要求
| 1.1底盘结构: 1.1.1 *采用方管焊接式框架,白色喷漆处理,防止生锈; 1.1.2 底部带有轮子,可推动,并带有可调节高度的支脚。 1.1.3 带有机械旋转手臂,有多角度调节操作界面。 1.1.4 电气控制集成到底盘上,与真空腔体一体式。 1.2基片架结构 1.2.1 可以固定1个≥135mm x 135 mm的基片托盘。 1.2.2容纳≥49片15mm*15mm基片,采用嵌入式结构。 1.2.3电机驱动实现连续旋转,最大转速可达60转/分钟,通过磁流体与基片托盘连接。 1.2.4配有二个挡板,气缸驱动,二个挡板组合使用,可遮挡范围基片托盘 1.2.5掩膜与基片对位精度可以达到+/-50μm。 1.3蒸发源: 1.3.1 ≥6组蒸发源,用于材料蒸发,金属与有机源必须通用。源与基片的垂直距离≥300mm。 1.3.2 每个蒸发源电极均采用水冷式结构,以便可以长时间蒸镀。 1.3.2 *每组蒸发源的上方同时配有防护板来防止蒸发源的交叉污染,防护板通过气缸驱动。 1.3.4源与源之间装有隔板,并避免源与源之间材料相互污染。 1.3.5 1台可编程直流稳压蒸发电源,功率≥2.4KW,精度0.1A,有电流模式和电压模式,用于蒸发材料。配合膜厚仪,能够实现自动蒸镀。 1.4自动化控制软件 1.4.1采用工控机模式,方便后期维护更新。 1.4.2控制软件的真空系统分为自动和手动模式,可以随时切换。 1.4.3 *可一键自动蒸镀工艺器件。 1.5膜厚控制系统 1.5.1 2个标准卡扣晶振传感器,均为水冷式,安放于基底附近。 1.5.2 晶振探头,膜厚仪与蒸发电源之间可实现闭环控制,用于控制电源功能及速率稳定性。 1.5.3 膜厚速率显示精度±0.01A/S。 1.5.4 *膜厚均匀性,重复性优于3%。 1.6 真空室 1.6.1 真空室由不锈钢制成,内部电解抛光,内部尺寸≥400mm*400mm*560mm,装有基础结构和挡板的固定装置,以及蒸发电极、真空泵、样品盘等装置。 1.6.2 真空腔体配备两个可以完全打开的门,前门为移门,通过与直线导轨,滑块等装置连接,可使前门左右开启与关闭;后门旋转门,通过旋转轴实现后门的开关,开启后腔体内部完全暴露在空气中,主要的目的为维护检修,并配一个长方形观察窗,配合腔体外部照明灯,方便观察腔体内部状况。 1.6.3 腔体极限真空≤3*10-5pa,从常压到5*10-4pa≤15min(充氮气保护) 1.6.4 带有旁抽系统,可以在不关闭分子泵的条件下,打开腔室,进行样品及材料的更换。 1.6.5 腔体内表面预留安装金属防污挡板接口,后期可安装金属防污挡板 1.7 真空系统 1.7.1 前级泵的抽速≥16m3/h。 1.7.2 主泵采用抽速≥700L/s的分子泵。 1.7.3 主泵和腔室之间安装有气动插板阀,通径≥150mm。 1.7.4 自动抽气控制,带安全互锁功能。 1.7.5 配有前级管路等相应的硬件。 1.7.6 真空室配真空计,测量范围为大气至10-7mbar。 |
参考链接
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售后服务
| 服务网点:当地;电话支持:7x24小时;服务年限:五年;服务时限:报修后24小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:一年; |