开启全网商机
登录/注册
| ****超高真空磁控溅射系统 | |
| 项目所在采购意向: | ****2025年11至12月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | ****超高真空磁控溅射系统 |
| 预算金额: | 200.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****2402 真空应用设备
|
| 采购需求概况 : |
****拟采购超高真空磁控溅射系统一套,主要采购需求如下:(1)1个磁控溅射主镀膜室:腔体尺寸不小于Φ550㎜×400㎜;磁控靶:2”,不少于5个,其中1个为强磁靶;极限真空:6.6×10-5Pa;样品台:有低温、常温、加热三种样品位,加热温度为室温至600℃;(2)1个离轴镀膜室:腔体尺寸不小于Φ400㎜×400㎜;磁控靶:2”,不少于3个,其中1个为强磁靶;极限真空:6.6×10-5Pa;样品台:最高激光加热温度为950℃,可控温;(3)1个样品室:腔体尺寸不小于Φ300㎜×400㎜;样品库:在样品室装有样品库,可放置至少8片样品;配置退火炉,温度800℃;真空系统:三个真空室配置独立的分子泵+机械泵真空系统和真空测量系统、相应的管道及阀门;(4)工作气路:两个镀膜室各配置2路进口气体质量流量计,工作气体为氩气、氮气,配置流量计、气路管及连接件;(5)电源及控制系统:配置工作电源及计算机控制程序,操作方便,有数据记录和异常报警功能;配置1台进口600W射频电源;配置1台进口500W直流电源;配置2台国产500W直流电源;配置1台国产偏压电源(0-200伏);(6)具有制作垂直磁隧道结的能力;(7)质保期:一年。
|
| 预计采购时间: | 2025-11 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写