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| 高真空磁控溅射薄膜沉积系统 | 1.0/台 | **科仪 | TRP450FS-1 | 1. 片内膜厚均匀性:≤±5%: 2. 极限真空度:≤6.6x10-6Pa(经烘烤除气后) 3. 抽速:25分钟可达到6.6x10-4 Pa 4. 真空室尺寸:Ф450mmx400mm 5. 磁控靶:3套,规格2英寸 6. 直流电源500W,数量2台 7. 射频电源500W,数量1台 8. 基片台尺寸:4英寸 9. 样品台炉丝温度: 800℃±1℃(无氧环境) 10. 质量流量控制气:3路(氩气、氧气、氮气)流量准确度±1.5%F.S 11. 脂润滑分子泵1台,抽速不小于1300L/S 12. 旋片真空泵1台,抽速不小于13L/S 13. 复合真空计1台:1x105Pa-1x10-7Pa 14. 工艺薄膜规 13.3pa或10pa(精度0.5%) 15. 该系统具有完备的自锁、互锁保护系统,并对关键部件有完备的故障报警及报警动作保护措施,确保设备使用安全。该系统采用配方式自动工艺流程,提供开放式工艺编辑、存储与调取执行,可实现真空获得、控制温度、镀膜工艺、真空释放等工艺的自由组合,并一键式全自动运行。 | 1.设备整体质量保证期为验收之日起 12 个月。 2.一年内免费维修正常使用出现的故障,非正常的故障维修只核收工本费,终身维修只核收工本费。 |