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高真空11靶位磁控溅射
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3900000.00
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相关单位：
***********公司企业信息
****2026年3月政府采购意向-高真空11靶位磁控溅射 详细情况
| 高真空11靶位磁控溅射 | |
| 项目所在采购意向： | ****2026年3月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 高真空11靶位磁控溅射 |
| 预算金额： | 390.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****9900-其他仪器仪表
|
| 采购需求概况 ： |
****学校凝聚态物理，电子信息，材料等相关学科的发展。设备将作为平台公共设备开放。
|
| 预计采购时间： | 2026-03 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2026-03-10
2026-03-04
2026-02-04
2026-01-29
2026-01-29
2026-01-08
2025-11-03
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