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高真空磁控溅射薄膜沉积系统
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***********公司企业信息
****2025年12月政府采购意向-高真空磁控溅射薄膜沉积系统 详细情况
| 高真空磁控溅射薄膜沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 高真空磁控溅射薄膜沉积系统 |
| 预算金额： | 130.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0503工艺试验机
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| 采购需求概况 ： |
采购标的名称：高真空磁控溅射薄膜沉积系统 主要功能 / 目标：支撑高校材料、物理、电子专业教学实验（如 “薄膜制备原理” 课程实践）与科研课题，实现金属、合金、陶瓷等单层 / 多层薄膜沉积；具备 2-4 靶位切换、nm 级膜厚精准调控（精度 ±5%）、室温 - 600℃基底温控功能，满足导电、光学、磁性薄膜制备需求。 采购数量：1 台 核心要求： 质量：极限真空度≤1×10-5Pa，沉积速率 0.1-10nm/min 可调，真空腔体用 316L 不锈钢，连续运行 72 小时无故障； 服务：到货后 15 个工作日内完**装调试，提供师生专项培训，质保期 1 年（核心部件 2 年），故障 48 小时内响应； 安全：符合 GB 4793.1 电气安全标准，具备真空异常、过温自动保护； 时限：合同签订后 30 日内到货。
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| 预计采购时间： | 2025-12 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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2025-11-03
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