逯瑶课题组高真空磁控溅射镀膜设备采购成交公告

发布时间: 2025年11月06日
摘要信息
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相关单位:
***********公司企业信息
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**** **** 竞采结果公告
项目名称 逯瑶课题组高真空磁控溅射镀膜设备采购
项目编号 ****
项目类型 货物类
成交方式 最低价成交
公示时间 本公告自发布之日起三日
成交单位 ****
成交金额(元) 237000.00
成交理由 最低价成交
预算(元) 285000.0
项目预算是否含税 国产含税
备注



采购明细
序号 名称 数量 单位 单价/元(报价) 总价/元(报价)

1

高真空磁控溅射镀膜设备(核心货物)

1

237000.0

237000.0

是否接受进口

拒绝进口

品牌

嘉硕真空

型号

JSD300

生产厂商

****

产地信息

****

技术规格及参数

所响应产品必须是全新、未使用过的原装合格正品(包括零部件),如安装或配置了软件的,须为正版软件。1.真空腔室:净空间尺寸不大于Φ500×H450 mm,要求前开门,前门需配备观察窗,观察窗玻璃尺寸不小于Φ99mm,配至少一套方便拆卸的防污隔板;腔室、法兰、管道、防污隔板等均采用304不锈钢材质;2真空系统:主泵分子泵抽速不小于2000 m3/ h,前级泵抽速不小于30 m3/ h,全量程数显复合真空计量程:1×105~1×10-5Pa;3.真空极限:优于2.3×10-7 Torr;4.抽速:抽至4.0×10-6 Torr≤20min;5.基片台:基片台,最大可处理基片不小于4英寸,基片台配一体式全尺寸挡板,挡板开合需要磁流体密封;基片台旋转:旋转速度0-25转/分连续可调,基片台旋转需要磁流体密封;基片台加热:PID智能温控表,控温范围室温~400℃;6.溅射靶及电源:不少于2只圆形平面靶,靶面尺寸不小于φ60 mm,可调整角度不小于±50°,可单靶轮流/双靶聚焦共溅射;直流电源不少于1台,要求可切换恒压,恒流,恒功率控制模式,电源功率可以预先设置;射频电源1台,频率13.56 MHz,要求自动匹配;配-800V偏压电源,可实现等离子体清洗功能;7.靶挡板:靶上有气动水平打开式挡板,角度与靶倾斜角度同步可调,要求磁流体密封;8.气路系统:不少于两路工艺气体MF C控制,量程范围需满足工艺制备金属、金属氧化物的需要;氩气准确度优于±1.5sccm;其他工艺气体准确度优于±1sccm;9.操控系统:PL C+触摸屏手自一体操控系统,真空系统的控制分为手动和自动二种模式,自动模式下,根据腔内压强自动执行相关泵,阀的启闭;可远程监控,软件使用期限:永久有效;10.辅件配置:冷却循环水机1台,制冷量不小于1P。

质保期

质保2年

售后要求

基础服务:包括设备安装调试、维修保养、技术支持及操作培训,需确保设备稳定运行并**使用寿命。 响应时效:一般要求24小时内响应服务请求,重大问题需48小时内解决。 专业能力:售后服务团队需具备技术资质,定期接受培训以保障服务质量。

付款方式 合同生效并收到相应发票后支付合同总额的30%作为进度款;设备到达指**装现场且安装、调试验收合格并提供全额发票后支付合同总额的70%。
交货期 合同签订后35天(自然日)内,****学校要求提前7天(自然日)通知送货
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