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超导腔磁控溅射镀膜系统
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1200000.00
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***********公司企业信息
****2025年11至12月政府采购意向-超导腔磁控溅射镀膜系统 详细情况
| 超导腔磁控溅射镀膜系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年11至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 超导腔磁控溅射镀膜系统 |
| 预算金额： | 120.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****2402真空应用设备
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| 采购需求概况 ： |
采购名称：超导腔磁控溅射镀膜系统 实现功能：满足在1.3GHz单cell铜腔以及650MHz单cell铜腔内壁进行镀膜，且保证在腔体束管、iris、赤道等部分，获得具有良好均匀性、致密性、结合力的膜层。 采购数量：本次拟采购设备总数量为1套 指标要求：（待镀工件）加热温度≥250℃，本底真空度1.0×10-5Pa（加热烘烤后），漏率≤5.0×10-9mbar﹒l/s ，直流电源500w , Hipims电源（峰值功率）1KW、Hipims电源（峰值功率）300KW、偏压电源100V、柱状磁控阴极靶。 质量要求：要求厂家有相关机械加工设备及经验，具备完整的质量管理体系。 服务及安全：质保期1年，发生质量问题时需4h内及时响应，质保期内须满足上门维修或返修条件；质保期外仅收材料及成本费用。产品存储须保持洁净，产品运输保障稳固及安全。 时限：产品交货期限为合同签订后4个月内，如甲方需要可提前分批发货。
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| 预计采购时间： | 2025-11 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2026-01-04
2025-12-19
2025-12-10
2025-11-28
2025-11-28
2025-11-11
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