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吸附外延反应炉
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| 申购单主题： | 吸附外延反应炉 | 申购单位： | **** | 报价类型： | 国内含税价 |
| 使用币种： | 人民币 | 公示时间： | 2025-11-16 19:36:09 | 申购备注： |
| 吸附外延反应炉 | 科民电子 | TALD-200-RE-200 | 1 |
| 规格 |
| *1.腔体：不锈钢+6061铝腔室，采用外置加热结构，加热部件在反应腔体外侧，反应腔内侧无加热机构，反应源不会以包括微观扩散在内的任何方式接触加热器。配置有2个可加热至200摄氏度的外延反应容器及对应的管道，1个水供应容器和对应的管道，容器容积≥50ml，通过耐温≥200摄氏度的自动阀门控制外延反应物进入腔室的量，该阀门开关响应时间＜20ms。 *2.样品台和载板：适用于1片最大不超过直径8英寸玻璃或硅片样品镀膜； *3.温度：基片温度上限不得超过150℃，SnO2反应温度不超过100℃，控制精度±1℃； 4.高精度PLC+工控机+沉积自动控制软件组成的控制系统；图像化的操作界面，实时显示系统各部分运行状态，可方便的调节温度、流量、脉冲时间等参数；多用户权限分配，软硬件互锁，异常报警、紧急停机等功能确保安全性；沉积模式：连续模式、停流模式；人机界面：外挂式触摸屏，可自由选择悬停位置 *5.设备高度≤850mm，腔室周边预留有和手套箱对接的法兰和O圈接口，以便与各大国产厂商的手套箱（箱体到地面高度＞880mm）对接。对接方式：将设备推入单工位标准手套箱底部后，通过升降脚架将设备整体升高，至设备法兰和和O圈与手套箱箱体底部法兰开口对准后，锁定升降脚架，设备和手套箱大腔能够完成密封，设备的反应腔室盖字能够以上开盖的形式开在手套箱内部。 *6.在不大于直径8英寸尺寸的载板或样品台内放置碎硅片作为测试片，厂家提供工艺配方，外延生长 300 循环氧化锡，膜厚非均匀性NU≤±2%为合格；非均匀性测试方法：样品台边缘10mm以外放置至少13个测试片，****中心位置进行膜厚测试。椭偏仪测试片内膜厚最大值、最小值分别记为Tmax、Tmin；非均匀性NU=（Tmax-Tmin）/（Tmax+Tmin）。 |
招标进度跟踪
2025-11-27
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吸附外延反应炉
2025-11-20
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吸附外延反应炉
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