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化学反应真空系统
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| 申购单主题： | 化学反应真空系统 | 申购单位： | **** | 报价类型： | 国内含税价 |
| 使用币种： | 人民币 | 公示时间： | 2025-11-19 18:28:07 | ||
| 申购备注： |
| 化学反应真空系统 | 科民电子 | TALD-200-VDV-P | 1 |
| 规格 |
| 1、60m3/h以上的真空泵一台，连接腔室后保证本底真空＜0.01torr，真空漏率＜5E-7Pa﹒L/s。 2、真空管路一套，腔室到热阱的管路配有加热套，可加热至150℃； 3、真空泵前配置热阱一台，可加热至500℃，防止化学反应中前驱体源在真空管路内冷凝； 4、薄膜真空计+皮拉尼真空计进行真空压力检测，检测范围1E-5torr~大气压。 5. 连接腔室后，保证氧化锡、氧化铝抽气效率，即非均匀性≤±3%。 |
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