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高真空双室沉积系统
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1200000.00
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***********公司企业信息
****2025 12（至）12月 政府采购意向-高真空双室沉积系统 详细情况
| 高真空双室沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2025 12（至）12月 政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 高真空双室沉积系统 |
| 预算金额： | 120.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | |
| 采购需求概况 ： |
设备用于为脉冲激光沉积提供高真空或纯净的气氛环境，保证薄膜沉积过程的稳定可控，配合深冷和高温基台，实现宽温域下的薄膜生长，精准调控材料微观结构。要求腔体真空度可达到1×10-7 mbar，高温基台加热温度最高可达到800 ℃，深冷基台冷却温度最低可达到77 K，基台可快速切换，可连续控温。
|
| 预计采购时间： | 2025-12 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2026-02-10
2026-02-03
2026-01-23
2026-01-21
2026-01-06
2026-01-05
2025-11-22
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