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| 氧化镓外延薄膜沉积系统 | 385000.00 | 1、 免费提供5年工艺包调试维护服务,用户购买后5年内,每年定期进行工艺包调试维护并免费响应用户定制化薄膜生长工艺调试要求; 2、 质保期5年,质保期内免费进行设备维修维保,质保期内免费更换因正常使用损坏的备品备件。 | 1、 最高温度950 ℃,长期使用温度900 ℃,升温速率最大10 ℃/min; 2、 二段加热,恒温区长度100 mm; 3、 恒温区控温精度:±0.5 ℃; 4、 石英尺寸内径150 mm,壁厚5 mm,外径120 mm,长度760 mm; 5、 衬底样品台可旋转,转速于0.1-30 r/min区间可调; 6、 4英寸衬底样品台,兼容小片(最小尺寸5*5mm); 7、 两路进气: N2/O2(3L/min)、N2(10L/min); 8、 超声雾化装置为频率2.4Mhz可调,雾化罐内部配置隔水雾化; 9、 除排气管**,其它与雾化气体接触的管路全部为316L材料或者耐腐蚀塑料管; 10、 设备地脚为万向轮+固定轮,设备高度不超过2.75米; 11、 提供氧化镓外延薄膜工艺包,由公司技术人员免费上门进行氧化镓外延薄膜工艺调试,确保该设备可实现高质量氧化镓外延薄膜生长以及掺杂浓度可调,形成稳定、适配工艺方案,保障氧化镓外延薄膜质量(如电学性能、晶体结构等)满足国际学术界领先标准; 12、 报价需包含运输及安装调试费用; 13、 免费提供操作培训及指导,通过到场培训、现场操作指导方式, | 1.0台 | 385000.00 | **** |